如何查詢(xún)SCI期刊的JCR分區(qū)？

1.Web of Science平臺(tái)查詢(xún)：使用瀏覽器打開(kāi)Web of Science的官方網(wǎng)站。請(qǐng)注意，該網(wǎng)站可能需要注冊(cè)登錄才能使用。在搜索框中輸入想要查詢(xún)的期刊名稱(chēng)，進(jìn)行搜索。在搜索結(jié)果中找到對(duì)應(yīng)的期刊，點(diǎn)擊進(jìn)入期刊詳情頁(yè)面，可以找到期刊的影響因子以及分區(qū)情況。Web of Science通常提供JCR分區(qū)信息，包括Q1、Q2、Q3、Q4四個(gè)分區(qū)。

2.中科院文獻(xiàn)情報(bào)中心查詢(xún)：使用瀏覽器打開(kāi)中科院文獻(xiàn)情報(bào)中心的官方網(wǎng)站，或進(jìn)入其期刊分區(qū)查詢(xún)頁(yè)面，在搜索結(jié)果中找到對(duì)應(yīng)的期刊，查看其分區(qū)情況。中科院文獻(xiàn)情報(bào)中心的分區(qū)主要是根據(jù)期刊超越指數(shù)來(lái)劃分，與JCR分區(qū)有所不同，但同樣具有參考價(jià)值。

3.聯(lián)系期刊編輯部：如果對(duì)某個(gè)期刊的分區(qū)情況有疑問(wèn)，可以直接聯(lián)系雜志社或咨詢(xún)在線(xiàn)客服。

需要注意的是，如果目標(biāo)期刊未被SCI收錄，則無(wú)法查詢(xún)到JCR分區(qū)信息；部分新興期刊或非英文期刊可能不在JCR數(shù)據(jù)庫(kù)中。在選擇期刊時(shí)，除了考慮分區(qū)情況外，還需要綜合考慮期刊的影響力、發(fā)表難度、研究領(lǐng)域等因素。

《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志簡(jiǎn)介：

《Materials Science In Semiconductor Processing》是一本專(zhuān)注于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的English學(xué)術(shù)期刊，創(chuàng)刊于1998年，由Elsevier Ltd出版商出版，出版周期Bimonthly。該刊發(fā)文范圍涵蓋ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC等領(lǐng)域，旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國(guó)內(nèi)外ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工作者在該領(lǐng)域的科學(xué)研究等工作中取得的經(jīng)驗(yàn)、科研成果、技術(shù)革新、學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)等。

《Materials Science In Semiconductor Processing》中文名稱(chēng)：《半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)》，ISSN號(hào)為1369-8001，E-ISSN號(hào)為1873-4081。Bimonthly出版一期特刊，專(zhuān)注于工程：電子與電氣領(lǐng)域的關(guān)鍵概念，提供最新的研究概述。

《半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)》為討論（光）電子、傳感器、探測(cè)器、生物技術(shù)和綠色能源的功能材料和器件的新型加工、應(yīng)用和理論研究提供了一個(gè)獨(dú)特的論壇。

每期都旨在提供當(dāng)前見(jiàn)解、新成就、突破和未來(lái)趨勢(shì)的快照，涉及微電子、能量轉(zhuǎn)換和存儲(chǔ)、通信、生物技術(shù)、（光）催化、納米和薄膜技術(shù)、混合和復(fù)合材料、化學(xué)加工、氣相沉積、器件制造和建模等不同領(lǐng)域，這些領(lǐng)域是先進(jìn)半導(dǎo)體加工和應(yīng)用的支柱。

內(nèi)容包括：亞微米器件的先進(jìn)光刻技術(shù)；蝕刻及相關(guān)主題；離子注入；損傷演變和相關(guān)問(wèn)題；等離子體和熱 CVD；快速熱處理；先進(jìn)的金屬化和互連方案；薄介電層、氧化；溶膠-凝膠處理；化學(xué)浴和（電）化學(xué)沉積；復(fù)合半導(dǎo)體加工；新型非氧化物材料及其應(yīng)用； (大)分子和混合材料；分子動(dòng)力學(xué)、從頭算方法、蒙特卡羅等；分立電路和集成電路的新材料和新工藝；磁性材料和自旋電子學(xué)；異質(zhì)結(jié)構(gòu)和量子器件；半導(dǎo)體電學(xué)和光學(xué)特性的工程；晶體生長(zhǎng)機(jī)制；可靠性、缺陷密度、固有雜質(zhì)和缺陷。

該刊已被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄，顯示了其學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該期刊在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中，被歸類(lèi)為工程技術(shù)大類(lèi)3區(qū)，ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣小類(lèi)3區(qū)，進(jìn)一步證明了其在學(xué)術(shù)界的地位。

從影響因子來(lái)看，《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志的影響因子為：4.2 ，這表明該期刊所發(fā)表的論文在學(xué)術(shù)界具有廣泛的影響力和引用率。該期刊的CiteScore為8，SJR為0.732，SNIP為0.992，顯示出其在國(guó)際學(xué)術(shù)界的重要影響力。