來源：學(xué)術(shù)之家整理 2025-03-18 15:36:57
《Plasma Sources Science & Technology》中文名稱：《等離子源科技》，創(chuàng)刊于1992年，由IOP Publishing Ltd.出版商出版，出版周期Bimonthly。
等離子體源科學(xué)與技術(shù) (PSST) 報(bào)告了在各種氣壓和等離子體密度范圍內(nèi)運(yùn)行的低溫等離子體和電離氣體，這些氣體具有不同的電離程度。PSST 的重點(diǎn)是這些等離子體的基礎(chǔ)科學(xué)、它們的來源以及由它們引發(fā)或維持的物理和化學(xué)過程，這些過程通過理論、計(jì)算或?qū)嶒?yàn)技術(shù)闡明。PSST 還報(bào)告了研究低溫等離子體所需的新的實(shí)驗(yàn)或理論得出的基礎(chǔ)數(shù)據(jù)（例如截面、傳輸系數(shù)）。與這些等離子體的技術(shù)和應(yīng)用相關(guān)的報(bào)告應(yīng)與等離子體狀態(tài)下發(fā)生的科學(xué)和基本過程緊密相關(guān)。
旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國(guó)內(nèi)外PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS工作者在該領(lǐng)域的科學(xué)研究等工作中取得的經(jīng)驗(yàn)、科研成果、技術(shù)革新、學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)等。
| 國(guó)家/地區(qū) | 發(fā)文量 |
| USA | 198 |
| CHINA MAINLAND | 137 |
| GERMANY (FED REP GER) | 136 |
| France | 122 |
| Russia | 108 |
| Netherlands | 61 |
| Japan | 56 |
| Czech Republic | 53 |
| England | 40 |
| Italy | 34 |
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| Review on experimental and t... | 23 |
| The importance of thermal di... | 20 |
| Comparison of six simulation... | 19 |
| The LisbOn KInetics Boltzman... | 17 |
| Energetic ions during plasma... | 17 |
| Foundations of low-temperatu... | 17 |
| Foundations of High-Pressure... | 16 |
| Kinetic study of low-tempera... | 16 |
| Atmospheric-pressure pulsed ... | 15 |
| Modelling the helium plasma ... | 14 |
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 745 |
| PHYS PLASMAS | 733 |
| IEEE T PLASMA SCI | 427 |
| J APPL PHYS | 370 |
| PLASMA CHEM PLASMA P | 186 |
| JPN J APPL PHYS | 171 |
| PLASMA PROCESS POLYM | 165 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 148 |
| VACUUM | 110 |
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 1276 |
| J APPL PHYS | 702 |
| PHYS PLASMAS | 595 |
| APPL PHYS LETT | 335 |
| IEEE T PLASMA SCI | 296 |
| J CHEM PHYS | 236 |
| PHYS REV A | 227 |
| PHYS REV LETT | 189 |
| PHYS REV E | 167 |
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