《Revista Chilena De Derecho Y Tecnologia》中文名稱：《智利法律與技術雜志》，由Universidad de Chile出版商出版。

《智利法律與技術雜志》是由智利大學法學院下屬的計算機法研究中心出版的學術期刊。該雜志致力于發表與法律和技術交叉領域相關的研究文章，包括但不限于知識產權、電子商務、數據保護法、人工智能法規以及其他新興技術領域的法律問題。期刊的目標是促進學術交流，提供一個專門討論法律與科技融合問題的平臺，并為立法者、律師、學者和學生提供深入的分析和研究。

作為專注于法律與技術交叉領域的期刊，其在該領域內具有特定的學術重要性。它不僅為智利國內的研究人員提供了發表研究成果的機會，也吸引了國際學者的關注，從而在全球范圍內對法律實踐和理論發展產生影響。期刊的主要讀者群體包括法律專業人士、技術專家、政策制定者、學者和研究生。

投稿《Revista Chilena De Derecho Y Tecnologia》需要準備的文件可詳細閱讀以下要求：

文章要求：

1、建議稿件控制10頁以上，文章撰寫語言為英語；（單欄格式，單倍行距，內容10號字體，文稿類型包含：原創研究(Original Research)、案例報告(Case Report)、文獻綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。

2、稿件重復率控制10%以內，論文務必保證原創性、圖標、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發表或引用過度的文章將不會被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機械性的稿件。

3、稿件必須有較好的英語表達水平，有圖，有表，有公式，有數據或設計，有算法（方案，模型），實驗，仿真等；參考文獻控制25條以上，參考文獻引用一半以上控制在近5年以內。

圖片和圖表要求：

1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。

2、文件大小最大不超過20MB，不要以單個文件的形式上傳數據。

3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。

4、線條不要細于0.25pt,也不能太粗，超過1.5pt,過細或過粗都影響美觀。

5、表格一般和manuscrript放置在一個word文檔里部分期刊 需要單獨上傳表格。

作者信息：

1、包括作者姓名、最高學位，作者單位（精確到部門），郵箱，地址，郵編，關鍵詞，內容，總結，項目基金，參考文獻，作者相片+簡介（一定要確保作者信息準確無誤，提交稿件之后這部分不能再作改動）。

更多征稿細則請查閱雜志社征稿要求。本站專注期刊咨詢服務十年，確保SCI檢索，稿件信息安全保密，合乎學術規范不成功不收費，詳情請咨詢客服。

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