《Plasma Chemistry And Plasma Processing》影響因子查詢可以通過(guò)以下幾種方法：

1.?通過(guò)期刊官網(wǎng)或數(shù)據(jù)庫(kù)查詢

期刊官網(wǎng)：訪問(wèn)Plasma Chemistry And Plasma Processing的官方網(wǎng)站。
Journal Citation Reports (JCR)：由Clarivate Analytics發(fā)布，是專(zhuān)門(mén)提供期刊引證報(bào)告的工具，可通過(guò)期刊名、ISSN/EISSN號(hào)等進(jìn)行檢索，查看期刊的影響因子及分區(qū)情況。

2.?通過(guò)學(xué)術(shù)平臺(tái)或工具查詢：

知網(wǎng)：國(guó)內(nèi)研究者可以使用中國(guó)知網(wǎng)的高級(jí)檢索功能，勾選“期刊導(dǎo)航”后輸入刊名，在詳情頁(yè)查看復(fù)合影響因子、綜合影響因子等本土化指標(biāo)。

3.?通過(guò)圖書(shū)館或?qū)W術(shù)資源

中科院分區(qū)查詢：過(guò)中科院的分區(qū)查詢系統(tǒng)，輸入期刊名稱即可查看影響因子和分區(qū)。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志是一本由Springer US出版，專(zhuān)注于物理與天體物理-工程：化工領(lǐng)域研究的學(xué)術(shù)期刊，創(chuàng)刊于1981年，其ISSN為0272-4324，E-ISSN為1572-8986。該刊為Quarterly，重點(diǎn)介紹在ENGINEERING, CHEMICAL領(lǐng)域的最新關(guān)鍵主題。這些文章旨在為尚未深入研究該領(lǐng)域的讀者提供最新的、完整的主題總結(jié)，幫助他們快速了解相關(guān)領(lǐng)域的核心內(nèi)容。

該雜志已被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄， 在中科院分區(qū)中，《Plasma Chemistry And Plasma Processing》位于大類(lèi)學(xué)科：物理與天體物理，分區(qū)為3區(qū)，小類(lèi)學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工，分區(qū)為：3區(qū)。

而在JCR分區(qū)中，它被歸為Q2。這表明該期刊在工程：化工領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。