中科院分區在SCI期刊中具有重要地位，主要體現在以下幾個方面：

投稿參考：中科院分區為科研人員選擇投稿期刊提供了重要依據。高分區期刊通常具有較高的學術聲譽和影響力，科研人員可以根據自己的研究領域和成果水平，選擇合適分區的期刊投稿，提高論文被接受和發表的機會。

學術評價：國內許多高校和科研機構在對科研人員進行績效考核、職稱評定、科研獎勵等方面，常常將中科院分區作為重要的評價指標之一。

學術影響力提升：進入中科院分區表是對期刊學術質量和影響力的一種認可，尤其是對于一些新興期刊或發展中的期刊來說，獲得較好的分區能夠吸引更多優秀的稿件和讀者，進一步提升期刊的學術影響力。

雜志簡介

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本在物理與天體物理領域具有重要影響力的學術期刊，由出版社Springer US出版，出版地區為：UNITED STATES。

一、基本信息

創刊時間：1981年
出版周期：Quarterly
ISSN：0272-4324，E-ISSN：1572-8986

定位：

本期刊發表有關等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創論文，范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環境處理（包括液體和氣體處理）、等離子體的生物應用（包括等離子體醫學和農業）、表面改性和沉積、粉末和納米結構合成、能源應用（包括等離子體燃燒和重整）、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用，例如相關的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用；僅考慮使用等離子體處理的材料或物質的性質的稿件不在本期刊的范圍內。

二、內容特色

內容特色：文章風格兼顧專業性與可讀性，適合不同背景的讀者。

三、學科領域與覆蓋范圍

主要學科：物理與天體物理-工程：化工。
覆蓋范圍：該刊發文范圍涵蓋ENGINEERING, CHEMICAL等領域。

四、學術影響力與評價

影響因子與分區：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的影響因子為2.6 ，JCR分區：Q2區，中科院分區：大類學科：工程技術，分區：3區，小類學科：ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工，分區：3區。

發文量與Gold OA占比：年發文量：123，Gold OA文章占比：14.18%。